Polprevodniška keramična šoba

Polprevodniška keramična šoba ima pomembno vlogo priPostopek HDP-CVD, ki se uporablja za natančen nadzor pretoka plina in zagotavljanjevisokokakovostno nanašanje filma. Keramična razpršilna šoba je natančno zasnovana za zagotavljanje doslednih in nadzorovanih stopenj pretoka plina, kar zmanjšuje možno turbulenco, ko plin vstopi v reakcijsko komoro.

Tehnične specifikacije:

1. Sestava materiala:

VeTeK Semiconductor Keramične šobe za peskanje so običajno izdelane iz polprevodniške keramike, kot je aluminijev oksid (Al2O3),silicijev karbid (SiC)ali cirkonijev oksid (ZrO2), imajo ti materiali odlične lastnosti:

    • visoka toplotna stabilnost (prenese temperature nad 1000 ℃)

    • odpornost proti koroziji zaradi reaktivnih plinov, ki se uporabljajo vCVD procesi(kot je silan, amoniak)

    • odpornost na stalno izpostavljenost plazmi.

2. Strukturna zasnova:

    • Velikost odprtine: Odprtina keramične šobe Semiconductor je znanstveno zasnovana tako, da omogoča natančen nadzor pretoka plina, kar vpliva na enakomernost in debelino filma.

    • Koti in geometrije: Natančno zasnovani za zagotavljanje enakomerne porazdelitve plina po substratu, kar zmanjšuje napake v nanešeni plasti.

V industriji polprevodnikov ima keramična peskalna šoba Semiconductor ključno vlogo predvsem v procesu HDP-CVD. Uporabljajo se tudi za nanašanje tankih filmov za proizvodnjo mikroelektronike, kar zagotavlja visokokakovostne površinske premaze, ki so enotni in brez kontaminantov.

Trgovine s keramičnimi šobami VeTeK Semiconductor: