Kitajska Silicijev nitrid Proizvajalec, dobavitelj, tovarna

VeTek Semiconductor se osredotoča na proizvodnjo silicijevega nitrida in ima ekipo za raziskave in razvoj, ki jo sestavljajo starejši strokovnjaki in vrhunski tehnični talenti. Keramika iz silicijevega nitrida ima prednosti trdote, toplotne odpornosti, odpornosti proti obrabi in odpornosti proti koroziji splošnih keramičnih materialov ter ima prednosti dobre odpornosti na toplotne udarce, odpornosti proti lezenju pri visokih temperaturah, dobrega samomazanja in dobre kemične stabilnosti ter je široko razširjena. uporablja se v novi energiji, kemični industriji, vesolju in polprevodnikih.

Materiali iz silicijevega nitrida VeTek Semiconductor imajo naslednje vidne prednosti:

1. Odlična kemična stabilnost

Keramika iz silicijevega nitrida ima odlično kemično stabilnost in lahko prenese različne močne kisline, alkalije in korozivne pline. Keramika iz silicijevega nitrida lahko v procesu izdelave polprevodnikov pogosto deluje z jedkimi kemikalijami, lahko zagotovi dolgoročno stabilno garancijo za delovanje.

2. Odlične mehanske lastnosti

Keramika iz silicijevega nitrida ima visoko trdoto, odlično tlačno trdnost in odpornost proti obrabi, lahko prenese mehanske obremenitve in površinsko obrabo, ni je enostavno deformirati ali zlomiti. Zaradi te mehanske lastnosti je zelo primeren kot material za strukturne in procesne dele v polprevodniški opremi.

3. Visokotemperaturna stabilnost

Keramika iz silicijevega nitrida lahko ohrani stabilnost v visokotemperaturnih okoljih, je ni enostavno zmehčati ali stopiti in lahko prenese visokotemperaturno obdelavo in ravnanje v procesu izdelave polprevodnikov. To omogoča njegovo uporabo pri izdelavi ključnih komponent visokotemperaturne procesne opreme, kot so prijemala, komponente reakcijske komore itd.

4. Odlične izolacijske lastnosti

Izolacijske lastnosti so kritične pri proizvodnji polprevodniških naprav. Keramika iz silicijevega nitrida ima dobre izolacijske lastnosti, ki lahko učinkovito izolirajo in zaščitijo komponente vezja pred uhajanjem toka ali elektromagnetnimi motnjami, kar pomaga izboljšati stabilnost in zanesljivost naprave.

5. Toplotna prevodnost in toplotna prevodnost

Keramika iz silicijevega nitrida ima visoko toplotno prevodnost, lahko učinkovito prevaja in odvaja toploto, ki jo ustvarja naprava, kar pomaga vzdrževati temperaturno stabilnost naprave med delovanjem. To je ključnega pomena za visoko zmogljivo delovanje polprevodniških naprav.

Uporabe materialov iz silicijevega nitrida VeTek Semiconductor v solarni in polprevodniški industriji vključujejo predvsem:

1. Elektrostatične vpenjalne glave in komponente komore za jedkanje

Keramika iz silicijevega nitrida se pogosto uporablja kot material za elektrostatične vpenjalne glave in komponente komor za jedkanje v proizvodnji polprevodnikov zaradi svoje odlične kemične stabilnosti in odpornosti na visoke temperature. Elektrostatične vpenjalne glave se uporabljajo za pritrditev in stabilizacijo rezin ali substratov, medtem ko se komponente komore za jedkanje uporabljajo za odpornost na jedke pline in visokotemperaturna okolja.

2. plošče za razdelitev plina in reflektorji

Keramika iz silicijevega nitrida se uporablja tudi pri izdelavi polprevodniške opreme v ploščah za distribucijo plina in reflektorjih. Plošče za razdelitev plina se uporabljajo za enakomerno porazdelitev reaktivnih ali zaščitnih plinov v reakcijsko komoro, medtem ko se reflektorji uporabljajo za optimizacijo porazdelitve in odboja svetlobe v reakcijski komori za izboljšanje učinkovitosti in enakomernosti reakcije.

3. Nosilci in toplotne komponente

Keramika iz silicijevega nitrida se pogosto uporablja kot držala in komponente za upravljanje toplote v opremi za proizvodnjo polprevodnikov. Te komponente morajo imeti dobro mehansko trdnost, odpornost proti obrabi in toplotno prevodnost, da zagotovijo stabilno delovanje opreme in natančnost obdelave naprave.

4. Blazinice za kemično mehansko poliranje (CMP).

Keramika iz silicijevega nitrida se pogosto uporablja kot material za blazinice v procesu kemičnega mehanskega poliranja (CMP). Ima odlično ravnost in odpornost proti obrabi ter lahko zagotovi stabilno podporo med postopkom poliranja, da zagotovi ravnost in natančnost površine polprevodniške rezine.