Čoln za rezine iz silicijevega karbida

VeTek Semiconductor vam kot profesionalni proizvajalec želi ponuditi visokokakovosten čoln za rezine iz silicijevega karbida.

Odlična toplotna zmogljivost: VeTek Semiconductor's high-purity Silicon Carbide Wafer Boat ima odlično toplotno zmogljivost, je stabilen v okoljih z visoko temperaturo in ima odlično toplotno prevodnost, kar jim omogoča delovanje pri temperaturah, ki so daleč nad okolico. Zaradi tega je čoln z rezinami iz silicijevega karbida visoke čistosti idealen za uporabo pri visoki moči in vzdržljivosti pri visokih temperaturah.

Odlična odpornost proti koroziji: Čoln za rezine iz silicijevega karbida visoke čistosti je ključno orodje za proizvodnjo polprevodnikov in je močno odporen na različna jedka sredstva. Kot zanesljiv nosilec lahko prenese učinke visoke temperature in korozije v kemičnem okolju, kar zagotavlja varno in učinkovito obdelavo rezin iz silicijevega karbida. Kot zanesljiv nosilec lahko prenese učinke visoke temperature in korozije v kemičnem okolju, kar zagotavlja varno in učinkovito obdelavo rezin iz silicijevega karbida.

Dimenzijska celovitost: Visoko čisti Silicon Carbide Wafer Boat se med postopkom sintranja ne skrči, ohranja dimenzijsko celovitost in odpravlja preostale napetosti, ki bi lahko povzročile zvijanje ali pokanje delov. To omogoča izdelavo delov kompleksnih oblik z natančnimi merami. Ne glede na to, ali gre za proizvodnjo polprevodniških naprav ali drugih industrijskih področij, čoln za rezine iz silicijevega karbida visoke čistosti zagotavlja zanesljiv nadzor dimenzij, da zagotovi, da deli ustrezajo specifikacijam.

VeTek Semiconductor's Silicon Carbide Wafer Boat je vsestransko orodje visoke čistosti in se lahko uporablja za različne tehnologije izdelave polprevodnikov, vključno z epitaksialno rastjo in nanašanjem s kemično paro. Zaradi trpežne zasnove in nereaktivnosti je čoln iz silicijevega karbida Wafer Boat visoke čistosti primeren za različne kemijske procese, kar zagotavlja, da se lahko gladko prilagaja različnim procesnim okoljem.

V proizvodnji polprevodnikov sta epitaksialna rast in nanašanje s kemično paro običajna koraka postopka, ki se uporabljata za gojenje visokokakovostnih rezin in tankih filmov. SiC čoln visoke čistosti ima pomembno vlogo kot nosilec, ki lahko prenese vpliv visokih temperatur in kemikalij, da zagotovi natančne postopke rasti in nanašanja.

Poleg svoje vzdržljive zasnove je čoln iz SiC visoke čistosti tudi nereaktiven. To pomeni, da ne bo škodljivo reagiral s kemikalijami za obdelavo, s čimer bo ohranil celovitost in zmogljivost čolna. To proizvajalcem polprevodnikov zagotavlja zanesljivo orodje za zagotavljanje doslednosti in ponovljivosti v proizvodnem procesu.

Fizikalne lastnosti prekristaliziranega silicijevega karbida

VeTek Semiconductor Production Shop

Pregled industrijske verige epitaksije polprevodniških čipov: