Kitajska Prevleka iz silicijevega karbida Proizvajalec, dobavitelj, tovarna

VeTek Semiconductor je specializiran za proizvodnjo izdelkov iz ultra čistega silicijevega karbida, ti premazi so zasnovani za nanašanje na prečiščen grafit, keramiko in ognjevzdržne kovinske komponente.

Naši premazi visoke čistosti so namenjeni predvsem uporabi v polprevodniški in elektronski industriji. Služijo kot zaščitna plast za nosilce rezin, suceptorje in grelne elemente ter jih ščitijo pred jedkimi in reaktivnimi okolji, do katerih pride v procesih, kot sta MOCVD in EPI. Ti procesi so sestavni del obdelave rezin in izdelave naprav. Poleg tega so naši premazi zelo primerni za uporabo v vakuumskih pečeh in segrevanje vzorcev, kjer se srečujemo z visokim vakuumom, reaktivnim okoljem in okoljem s kisikom.

Pri VeTek Semiconductor ponujamo celovito rešitev z našimi naprednimi zmogljivostmi strojne delavnice. To nam omogoča izdelavo osnovnih komponent z uporabo grafita, keramike ali ognjevzdržnih kovin in lastno nanašanje keramičnih prevlek SiC ali TaC. Nudimo tudi storitve premazovanja za dele, ki jih dobavljajo stranke, s čimer zagotavljamo prilagodljivost za izpolnjevanje različnih potreb.

Naši izdelki s prevleko iz silicijevega karbida se pogosto uporabljajo v Si epitaksiji, SiC epitaksiji, sistemu MOCVD, procesu RTP/RTA, postopku jedkanja, postopku jedkanja ICP/PSS, procesu različnih vrst LED, vključno z modro in zeleno LED, UV LED in globokim UV LED itd., ki je prilagojen opremi LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI itd.

Deli reaktorja, ki jih lahko naredimo:

Prevleka iz silicijevega karbida ima več edinstvenih prednosti:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parameter prevleke iz silicijevega karbida VeTek Semiconductor:

Osnovne fizikalne lastnosti CVD SiC prevleke
Lastnina	Tipična vrednost
Kristalna struktura	FCC β faza polikristalna, pretežno (111) usmerjena
Gostota	3,21 g/cm³
Trdota	2500 Vickers trdota（500g obremenitev）
Velikost zrn	2~10 μm
Kemijska čistost	99,99995 %
Toplotna zmogljivost	640 J·kg-1·K-1
Temperatura sublimacije	2700 ℃
Upogibna trdnost	415 MPa RT 4-točkovno
Youngov modul	430 Gpa 4-točkovni upogib, 1300 ℃
Toplotna prevodnost	300 W·m-1·K-1
Toplotna ekspanzija (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

Vpenjalna glava iz silicijevega karbida

Kot vodilni proizvajalec in dobavitelj izdelkov iz silicijevega karbida Wafer Chuck na Kitajskem, VeTek Semiconductor's Silicon Carbide Wafer Chuck igra nenadomestljivo vlogo v procesu epitaksialne rasti s svojo odlično odpornostjo na visoke temperature, odpornostjo proti kemični koroziji in odpornostjo na termični šok. Pozdravljamo vaše nadaljnje posvetovanje.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Glava za tuširanje iz silicijevega karbida

VeTek Semiconductor je vodilni proizvajalec in dobavitelj izdelkov za prho iz silicijevega karbida na Kitajskem. SiC tuš glava ima odlično visoko temperaturno toleranco, kemično stabilnost, toplotno prevodnost in dobro distribucijo plina, kar lahko doseže enakomerno porazdelitev plina in izboljša kakovost filma. Zato se običajno uporablja pri visokotemperaturnih postopkih, kot so postopki kemičnega naparjevanja (CVD) ali fizikalnega naparjevanja (PVD). Pozdravljamo vaše nadaljnje posvetovanje.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Tesnilni obroč iz silicijevega karbida

VeTek Semiconductor Silicon Carbide Seal Ring kot profesionalni proizvajalec izdelkov in tovarna tesnilnih obročev iz silicijevega karbida na Kitajskem se pogosto uporablja v opremi za obdelavo polprevodnikov zaradi svoje odlične toplotne odpornosti, odpornosti proti koroziji, mehanske trdnosti in toplotne prevodnosti. Posebej primeren je za postopke, ki vključujejo visokotemperaturne in reaktivne pline, kot so CVD, PVD in plazemsko jedkanje, in je ključna izbira materiala v procesu izdelave polprevodnikov. Vaša dodatna vprašanja so dobrodošla.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Držalo za rezine, prevlečeno s SiC

VeTek Semiconductor je profesionalni proizvajalec in vodja izdelkov držal za rezine, prevlečenih s SiC, na Kitajskem. Držalo za rezine s prevleko iz SiC je držalo za rezine za postopek epitaksije pri obdelavi polprevodnikov. Je nenadomestljiva naprava, ki stabilizira rezino in zagotavlja enakomerno rast epitaksialne plasti. Pozdravljamo vaše nadaljnje posvetovanje.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Držalo za napolitanke Epi

VeTek Semiconductor je profesionalni proizvajalec Epi Wafer Holder in tovarna na Kitajskem. Epi Wafer Holder je držalo za rezine za postopek epitaksije pri obdelavi polprevodnikov. Je ključno orodje za stabilizacijo rezine in zagotavljanje enakomerne rasti epitaksialne plasti. Široko se uporablja v opremi za epitaksijo, kot sta MOCVD in LPCVD. Je nenadomestljiva naprava v procesu epitaksije. Pozdravljamo vaše nadaljnje posvetovanje.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Satelitski nosilec rezin Aixtron

Kot profesionalni proizvajalec izdelkov Aixtron Satellite Wafer Carrier in inovator na Kitajskem je VeTek Semiconductor's Aixtron Satellite Wafer Carrier nosilec rezin, ki se uporablja v opremi AIXTRON, ki se večinoma uporablja v procesih MOCVD pri obdelavi polprevodnikov in je posebej primeren za visokotemperaturno in visoko natančnost procesi obdelave polprevodnikov. Nosilec lahko zagotovi stabilno podporo za rezine in enakomerno nanašanje filma med epitaksialno rastjo MOCVD, kar je bistveno za postopek nanašanja plasti. Pozdravljamo vaše nadaljnje posvetovanje.

Preberi več Pošlji povpraševanje

<1 2 3 4 5...12 >

Kot profesionalni Prevleka iz silicijevega karbida proizvajalec in dobavitelj na Kitajskem imamo lastno tovarno. Ne glede na to, ali potrebujete prilagojene storitve za izpolnjevanje posebnih potreb vaše regije ali želite kupiti napredno in vzdržljivo Prevleka iz silicijevega karbida, izdelano na Kitajskem, nam lahko pustite sporočilo.