Prstan s prevleko iz tantalovega karbida

VeTek polprevodniški obroč, prevlečen s tantalovim karbidom, je izdelan izgrafitin prevlečen s tantalovim karbidom, kombinacijo, ki izkorišča najboljše lastnosti obeh materialov za zagotavljanje vrhunske zmogljivosti in dolgoživosti. 

Prevleka TaC na tantalovem karbidnem prevlečnem obroču zagotavlja, da ta ostane kemično inerten v reaktivnih atmosferah peči za rast kristalov SiC, ki pogosto vključujejo pline, kot so vodik, argon in dušik. Ta kemična inertnost je ključnega pomena za preprečitev kakršne koli kontaminacije rastočega kristala, ki bi lahko povzročila napake in zmanjšano delovanje končnih polprevodniških izdelkov. Poleg tega toplotna stabilnost, ki jo zagotavlja prevleka TaC, omogoča, da prevlečni obroč iz tantalovega karbida učinkovito deluje pri visokih temperaturah, potrebnih za rast kristalov SiC, ki običajno presegajo 2000 °C.

Mehanske lastnosti TaC močno zmanjšajo obrabo obroča iz tantalovega karbida. To je ključnega pomena zaradi ponavljajoče se narave procesa rasti kristalov, ki izpostavlja vodilni obroč pogostim toplotnim ciklom in mehanskim obremenitvam. Trdota in odpornost proti obrabi TaC zagotavljata, da obroč s prevleko iz TaC dolgo časa ohranja svojo strukturno celovitost in natančne dimenzije, kar zmanjšuje potrebo po pogostih menjavah in zmanjšuje čas izpadov v proizvodnem procesu. 

Poleg tega kombinacija grafita in TaC v obroču za prevleko iz tantalovega karbida optimizira toplotno upravljanje v peči za rast kristalov. Visoka toplotna prevodnost grafita učinkovito porazdeli toploto, preprečuje vroče točke in spodbuja enakomerno rast kristalov. Medtem prevleka TaC služi kot toplotna pregrada, ki ščiti grafitno jedro pred neposredno izpostavljenostjo visokim temperaturam in reaktivnim plinom. Ta sinergija med materiali jedra in prevleke ima za posledico vodilni obroč, ki ne vzdrži le težkih pogojevRast kristalov SiCampak tudi poveča splošno učinkovitost in kakovost procesa.

VeTek polprevodniški obroč s prevleko iz tantalovega karbida je bistvena komponenta v industriji polprevodnikov, posebej zasnovana za rastKristali silicijevega karbida. Njegova zasnova izkorišča moč grafita in tantalovega karbida za zagotavljanje izjemne zmogljivosti v okoljih z visoko temperaturo in visokim stresom. Prevleka TaC zagotavlja kemično inertnost, mehansko vzdržljivost in toplotno stabilnost, kar je vse ključnega pomena za proizvodnjo visokokakovostnih kristalov SiC. Z ohranjanjem svoje celovitosti in funkcionalnosti v ekstremnih pogojih obroč podpira učinkovito in brezhibno rast kristalov SiC, kar prispeva k napredku visokozmogljivih in visokofrekvenčnih polprevodniških naprav.

VeTek Semiconductor je vodilni proizvajalec in dobaviteljPrevleka iz tantalovega karbida, Prevleka iz silicijevega karbidainPoseben grafitna Kitajskem. Že dolgo smo zavezani zagotavljanju napredne tehnologije in proizvodnih rešitev za industrijo polprevodnikov in iskreno upamo, da bomo vaš dolgoročni partner na Kitajskem.

Prevleka iz tantalovega karbida (TaC).na mikroskopskem prerezu：

Pregled naveriga industrije epitaksije polprevodniških čipov：