MOCVD LED Epi susceptor

VeTek Semiconductor’sMOCVD LED Epi susceptorje osrednja komponenta. V procesu priprave polprevodniških naprav,MOCVD LED Epi susceptorni samo preprosta ogrevalna platforma, temveč tudi natančno procesno orodje, ki močno vpliva na kakovost, stopnjo rasti, enotnost in druge vidike tankoslojnih materialov.

Posebne uporabeMOCVD LED Epi susceptorpri obdelavi polprevodnikov so naslednji:

Ogrevanje podlage in kontrola enakomernosti:

MOCVD Epitaxy Susceptor se uporablja za zagotavljanje enakomernega segrevanja za zagotovitev stabilne temperature substrata med epitaksialno rastjo. To je bistvenega pomena za pridobivanje visokokakovostnih polprevodniških filmov in zagotavljanje konsistentnosti debeline in kristalne kakovosti epitaksialnih plasti po substratu.

Podpora za reaktorske komore za kemično naparjevanje (CVD).:

Kot pomembna komponenta v CVD reaktorju Susceptor podpira odlaganje kovinskih organskih spojin na substrate. Pomaga natančno pretvoriti te spojine v trdne filme, da tvorijo želene polprevodniške materiale.

Spodbujanje distribucije plina:

Zasnova Susceptorja lahko optimizira porazdelitev pretoka plinov v reakcijski komori, s čimer zagotovi, da reakcijski plin enakomerno pride v stik s substratom, s čimer se izboljša enakomernost in kakovost epitaksialnih filmov.

Lahko ste prepričani, da kupujete po meriMOCVD LED Epi susceptorod nas, veselimo se sodelovanja z vami. Če želite izvedeti več informacij, se lahko takoj posvetujete z nami in odgovorili vam bomo pravočasno!

Osnovne fizikalne lastnosti CVD SiC prevleke:

Proizvodne trgovine:

Pregled verige industrije epitaksije polprevodniških čipov：