Kitajska Tehnologija MOCVD Proizvajalec, dobavitelj, tovarna

VeTek Semiconductor ima prednost in izkušnje na področju nadomestnih delov za tehnologijo MOCVD.

MOCVD, polno ime Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (metal-organic Chemical Vapor Deposition), lahko imenujemo tudi kovinsko-organska parna epitaksija. Organokovinske spojine so razred spojin z vezmi kovina-ogljik. Te spojine vsebujejo vsaj eno kemično vez med kovino in ogljikovim atomom. Kovinsko-organske spojine se pogosto uporabljajo kot prekurzorji in lahko tvorijo tanke filme ali nanostrukture na substratu z različnimi tehnikami nanašanja.

Kovinsko-organsko kemično naparjevanje (tehnologija MOCVD) je običajna tehnologija epitaksialne rasti, tehnologija MOCVD se pogosto uporablja pri izdelavi polprevodniških laserjev in LED. Zlasti pri proizvodnji LED je MOCVD ključna tehnologija za proizvodnjo galijevega nitrida (GaN) in sorodnih materialov.

Obstajata dve glavni obliki epitaksije: epitaksija v tekoči fazi (LPE) in epitaksija v parni fazi (VPE). Epitaksijo v plinski fazi lahko nadalje razdelimo na kovinsko-organsko kemično naparjanje (MOCVD) in epitaksijo z molekularnim žarkom (MBE).

Tuje proizvajalce opreme zastopata predvsem Aixtron in Veeco. Sistem MOCVD je ena ključnih naprav za proizvodnjo laserjev, LED, fotoelektričnih komponent, moči, RF naprav in sončnih celic.

Glavne značilnosti nadomestnih delov za tehnologijo MOCVD, ki jih proizvaja naše podjetje:

1) Visoka gostota in popolna inkapsulacija: grafitna osnova kot celota je v visokotemperaturnem in jedkem delovnem okolju, površina mora biti popolnoma ovita, prevleka pa mora imeti dobro zgoščenost, da ima dobro zaščitno vlogo.

2) Dobra površinska ravnost: Ker grafitna osnova, ki se uporablja za rast monokristalov, zahteva zelo visoko površinsko ravnost, je treba ohraniti prvotno ravnost osnove po pripravi prevleke, kar pomeni, da mora biti prevlečna plast enakomerna.

3) Dobra vezna trdnost: Zmanjšajte razliko v koeficientu toplotnega raztezanja med grafitno osnovo in prevlečnim materialom, kar lahko učinkovito izboljša vezno trdnost med obema, in prevleke ni enostavno razpokati po izkušnji visoke in nizke temperature cikel.

4) Visoka toplotna prevodnost: visokokakovostna rast odrezkov zahteva, da grafitna osnova zagotavlja hitro in enakomerno toploto, zato mora imeti premazni material visoko toplotno prevodnost.

5) Visoko tališče, odpornost proti oksidaciji pri visokih temperaturah, odpornost proti koroziji: premaz mora biti sposoben stabilno delovati pri visokih temperaturah in jedkem delovnem okolju.

Postavite 4-palčni substrat
Modro-zelena epitaksija za gojenje LED
Nameščeno v reakcijski komori
Neposreden stik z rezino Postavite 4-palčni substrat
Uporablja se za gojenje UV LED epitaksialne folije
Nameščeno v reakcijski komori
Neposreden stik z rezino Stroj Veeco K868/Veeco K700
Bela LED epitaksija/modrozelena LED epitaksija Uporablja se v opremi VEECO
Za epitaksijo MOCVD
Susceptor za prevleko SiC Oprema Aixtron TS
Globoka ultravijolična epitaksija
2-palčna podlaga Oprema Veeco
Rdeče-rumena LED epitaksija
4-palčni substrat za rezine TaC prevlečen suceptor
(SiC Epi/UV LED sprejemnik) SiC prevlečen suceptor
(ALD/Si Epi/LED MOCVD susceptor)

View as

Podporni obroč s prevleko iz SiC

VeTek Semiconductor je profesionalni proizvajalec in dobavitelj na Kitajskem, ki v glavnem proizvaja podporne obroče s prevleko iz SiC, prevleke iz silicijevega karbida (SiC) CVD, prevleke iz tantalovega karbida (TaC), SiC v razsutem stanju, prah SiC in SiC materiale visoke čistosti. Zavezani smo zagotavljanju popolne tehnične podpore in vrhunskih rešitev izdelkov za industrijo polprevodnikov, dobrodošli, da nas kontaktirate.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Susceptor za prevleko SiC

Vetek Semiconductor se osredotoča na raziskave in razvoj ter industrializacijo CVD SiC prevlek in CVD TaC prevlek. Če vzamemo za primer prevleko SiC, je izdelek visoko obdelan z visoko natančnostjo, gosto prevleko CVD SIC, visoko temperaturno odpornostjo in močno odpornostjo proti koroziji. Povpraševanje o nas je dobrodošlo.

Preberi več Pošlji povpraševanje

SiC Coating Set Disc

VeTek Semiconductor, vodilni proizvajalec CVD SiC prevlek, ponuja SiC Coating Set Disc v reaktorjih Aixtron MOCVD. Ti diski s prevleko iz SiC so izdelani iz grafita visoke čistosti in imajo prevleko iz SiC CVD z nečistočami pod 5 ppm. Pozdravljamo povpraševanja o tem izdelku.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Center za zbiranje prevlek SiC

VeTek Semiconductor, ugleden proizvajalec CVD SiC prevlek, vam prinaša vrhunsko SiC Coating Collector Center v sistemu Aixtron G5 MOCVD. Ta SiC Coating Collector Center je natančno zasnovan z grafitom visoke čistosti in se ponaša z napredno CVD SiC prevleko, ki zagotavlja visoko temperaturno stabilnost, odpornost proti koroziji in visoko čistost. Veselimo se sodelovanja z vami!

Preberi več Pošlji povpraševanje

SiC Coating Collector Top

Dobrodošli pri VeTek Semiconductor, vašem zaupanja vrednem proizvajalcu CVD SiC prevlek. Ponosni smo, da ponujamo Aixtron SiC Coating Collector Top, ki je strokovno zasnovan z uporabo grafita visoke čistosti in ima najsodobnejšo CVD SiC prevleko z nečistočami pod 5 ppm. Prosimo, ne oklevajte in se obrnite na nas s kakršnimi koli vprašanji ali poizvedbami

Preberi več Pošlji povpraševanje

Dno zbiralnika prevleke SiC

VeTek Semiconductor s svojim strokovnim znanjem in izkušnjami pri proizvodnji prevlek iz SiC CVD ponosno predstavlja dno zbiralnika prevlek Aixtron SiC. Dno zbiralnika s prevleko SiC je izdelano iz grafita visoke čistosti in je prevlečeno s CVD SiC, kar zagotavlja nečistoče pod 5 ppm. Za dodatne informacije in poizvedbe se obrnite na nas.

Preberi več Pošlji povpraševanje

<1 2 3 4 >

Kot profesionalni Tehnologija MOCVD proizvajalec in dobavitelj na Kitajskem imamo lastno tovarno. Ne glede na to, ali potrebujete prilagojene storitve za izpolnjevanje posebnih potreb vaše regije ali želite kupiti napredno in vzdržljivo Tehnologija MOCVD, izdelano na Kitajskem, nam lahko pustite sporočilo.