Porozni grafit

Kot profesionalecPorozni grafitproizvajalecna Kitajskem,Porozni grafitproizvaja VeTek Semiconductor, je ključni potrošni material v procesu izdelave polprevodnikov, njegova zmogljivost pa neposredno vpliva na kakovost in zanesljivost polprevodniških naprav. Vabljeni k nadaljnjemu posvetovanju.

VeTek SemiconductorPorozni grafitigra nenadomestljivo vlogo pri obdelavi polprevodnikov, kot sledi:

Visokotemperaturna talilna posoda: Visoko tališče poroznega grafita mu omogoča, da prenese visokotemperaturni proces taljenja polprevodniških materialov, medtem ko porozna struktura učinkovito zavira nastajanje mehurčkov in zagotavlja visoko čistost taline.

Nosilec za zaščito atmosfere: Porozni grafit lahko zagotovi razmeroma stabilno inertno atmosfero, zmanjša stik med talino in zunanjim okoljem ter prepreči oksidacijo in kontaminacijo.

Medij za prenos toplote: Odlična toplotna prevodnost poroznega grafita zagotavlja enakomerno porazdelitev temperature taline in spodbuja enakomerno rast kristalov.

Podpora in pritrditev: Graphite Crucible zagotavlja stabilno podporo za talino, da prepreči njeno deformacijo.

Kanal za difuzijo plina: Struktura poroznega grafita zagotavlja difuzijski kanal za plin, ustvarjen v talini, kar pomaga zmanjšati tlak plina in preprečiti napake v kristalih.

Kot profesionalni proizvajalecGaN na epi akceptorju SiC, Porozni grafitinTaC Coating Platena Kitajskem VeTek Semiconductor vedno vztraja pri zagotavljanju prilagojenih storitev za izdelke in je zavezan k zagotavljanju industrije z vrhunsko tehnologijo in rešitvami izdelkov. Iskreno se veselimo vašega posveta.

Porozni grafitfizikalne lastnosti:

Delavnice za proizvodnjo poroznega grafita:

Pregled verige industrije epitaksije polprevodniških čipov：