Vetek semiconductor Physical Vapor Deposition (PVD) je napredna procesna tehnologija, ki se pogosto uporablja pri površinski obdelavi in pripravi tankega filma. Tehnologija PVD uporablja fizikalne metode za neposredno pretvorbo materialov iz trdnih ali tekočih v plinaste in tvori tanek film na površini ciljne podlage. Ta tehnologija ima prednosti visoke natančnosti, visoke enotnosti in močnega oprijema ter se pogosto uporablja v polprevodnikih, optičnih napravah, premazih za orodja in okrasnih premazih. Vabljeni k razpravi z nami!
Vetek Semiconductor je kitajski proizvajalec, ki dobavlja napredne polprevodniške materiale v postopku fizičnega naparjevanja, kot jeSiC prevlečen lonček, stekleno ogljikov lonček,Grafitni grelci s prevleko SiC,Izparilni lončki z elektronskim žarkom.
Osnovni principi postopka PVD
Postopki fizikalnega naparjevanja običajno vključujejo različne specifične metode, kot so izhlapevanje, razprševanje in ionsko nanašanje. Ne glede na uporabljeno metodo je osnovno načelo fizičnega naparjevanja izhlapevanje materiala iz vira z visokotemperaturnim segrevanjem ali ionskim obstreljevanjem. Uparjeni material se giblje v obliki atomov ali molekul v vakuumu ali nizkotlačnem okolju in kondenzira v tanek film na površini substrata. Ta proces se v glavnem izvaja s fizikalnimi sredstvi, s čimer se izognemo vplivu kemičnih reakcij na čistost materiala.
Prednosti tehnologije fizičnega naparjevanja
Visoka čistost in visoka gostota: PVD naneseni filmi imajo običajno visoko čistost in gostoto, kar lahko znatno izboljša učinkovitost prevleke, kot so odpornost proti obrabi, odpornost proti koroziji in trdota.
Močan oprijem filma: Postopek PVD lahko tvori film z močnim oprijemom na podlago, kar zagotavlja, da filma ni enostavno odlepiti med uporabo, kar podaljša življenjsko dobo izdelka.
Širok izbor materialov: Tehnologijo PVD je mogoče uporabiti za različne materiale, vključno s kovinami, keramiko in zlitinami, in lahko pripravi različne funkcionalne premaze, kot so prevodni, izolacijski, toplotno odporni in antioksidacijski premazi.
Varstvo okolja in trajnost: V primerjavi s postopki, kot je kemično naparjevanje (CVD), je postopek fizičnega naparjevanja (PVD) okolju prijaznejši, ne vključuje nastajanja škodljivih plinov in zmanjšuje onesnaževanje okolja.
Uporaba PVD tehnologije
Industrija polprevodnikov: V proizvodnji polprevodnikov se fizično naparjevanje pogosto uporablja pri pripravi tankoslojnih elektrod, difuzijskih pregrad in kovinskih povezav, da se zagotovi dobra prevodnost in stabilnost komponent.
Optične naprave: Tehnologija fizičnega naparjevanja se pogosto uporablja pri optičnih prevlekah, kot so antirefleksni premazi za ogledala in leče, ter pri izdelavi optičnih filtrov za izboljšanje delovanja optičnih naprav.